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甘肃真空磁控溅射镀膜机供应商-的选择,北京创世威纳








溅射镀膜机溅射镀技术优点

溅射镀膜机溅射镀技术应用  蒸发和磁控溅射两用立式装饰镀膜机,主要适用于塑料、陶瓷、玻璃金属材料表面镀制金属化装饰膜。由于镀膜室为立式容器,所以它具有卧式镀膜机的一切优点,   又利于自重较大的、易碎的镀件装卡,更可方便地实现自动生产线,是替代传统湿法水电镀的更为理想的新一代真空镀膜设备。本机镀部分产品可不做底油。例如,低温沉积氮化硅减反射膜,以提高太阳能电池的光电转换效率。本机主 要特点配用改进型高真空排气系统,抽速快、、节电、降噪和延长泵使用寿命;实现蒸发、磁控溅射、自动控制,操作简单,工作-。

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磁控溅射法的优势

目前常用的制备copt 磁性薄膜的方法是磁控溅射法。磁控溅射法是在高真空充入适量的ya气,在阴极(柱状靶或平面靶)和阳极(镀膜室壁) 之间施加几百k 直流电压,在镀膜室内产生磁控型异常辉光放电,使ya气发生电离。ya离子被阴极加速并轰击阴极靶表面,将靶材表面原子溅射出来沉积在基底表面上形成薄膜。通过更换不同材质的靶和控制不同的溅射时间,便可以获得不同材质和不同厚度的薄膜。总之,只有控制好以上各因素,才能够-所开发的镀膜pet具有稳定的颜色、优异的性能和耐久性。磁控溅射法具有镀膜层与基材的结合力强、镀膜层致密、均匀等优点。

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溅射镀膜

由于被溅射原子是与具有数十电子伏特能量的正离子交换动能后飞溅出来的,因而溅射出来的原子能量高,有利于提高沉积时原子的扩散能力,提高沉积组织的致密程度,使制出的薄膜与基片具有强的附着力。溅射时,气体被电离之后,气体离子在电场作用下飞向接阴极的靶材,电子则飞向接地的壁腔和基片。这样在低电压和低气压下,产生的离子数目少,靶材溅射效率低;而在高电压和高气压下,尽管可以产生较多的离子,但飞向基片的电子携带的能量高,容易使基片-甚至发生二次溅射,影响制膜。另外,靶材原子在飞向基片的过程中与气体分子的碰撞几率也大为增加,因而被散射到整个腔体,既会造成靶材浪费,又会在制备多层膜时造成各层的污染。想要了解更多磁控溅射镀膜机的相关,欢迎拨打图片上的热线电话。









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